بهبود برآورد ضخامت لایه‌های نازک در حوزه کوفرنسی

بهبود برآورد ضخامت لایه های نازک در حوزه کوفرنسی

در لرزه شناسی تهیه یک مقطع لرزه ای با قدرت تفکیک زیاد همواره یکی از اهداف پردازشگران و مفسران است و برآورد ضخامت لایه ها، به خصوص لایه های نازک یکی از ابزارهای مهم برای رسیدن به این هدف است. لایه های نازک موجب می شوند تا قله ها و شکاف های متناوبی در طیف دامنه ردلرزه تولید شود. در روش تجزیه طیفی که مرسوم ترین روش است، بسامد مربوط به اولین قله در طیف دامنه ردلرزه دو برابر می شود تا زمان تناوب شکا...

بررسی اثر ضخامت لایه‌های نازک بسبلوریSnO2 در حسگری گازهای O2 و CO2

در این تحقیق سه نمونه از لایه های نازک اکسید قلع خالص را که به روش اسپری پایرولیزیز بر روی زیرلایه شیشه لایه نشانی شده اند مورد مطالعه قرار دادیم. اینها به عنوان حسگر گازهای اکسیژن و دی اکسیدکربن استفاده می‌شوند. طیف عبوری لایه ها حاکی از نازکی لایه ها در محدوده نانومتری (nm 200-150)، و طیف XRD نشانگر تغییر سمتگیری بسبلوری از (200) به (110) می‌باشد که این تغییر سمت‌گیری بلوری به دلیل تغییر ضخام...

ارتعاش آزاد ورق نازک ناهمسان در ضخامت به روش نوار محدود دقیق

اندازه گیری ضخامت شکست لایه های نازک

در این رساله نخست تاریخچه تهیه لایه نازک ، چگونگی تهیه و روشهای مختلف همچنین شرایط لایه گذاری ذکر گردیده سپس چگونگی آماده سازی زیر لایه و شرایط لازم برای لایه نشانی آمده است . در ادامه راههای مختلف اندازه گیری ضخامت و همچنین دقت روشهای مختلف اندازه گیری بیان شده است . در قسمت کارهای عملی و تحقیقات انجام شده سیستمهای لایه گذاری مورد استفاده به همراه شمای اپتیکی دستگاه نشان داده شده است . در این ...

ساخت نمونه وبررسی تجربی پدیده های ترموکرومیسم و الکتروکرومیسم در لایههای نازک اکسید وانادیم

در تحقیق حاضر، لایه‏های نازک اکسید وانادیوم به دو روش تبخیر حرارتی در خلاء و اسپری پایرولیزیز تهیه و خواص الکتروکرومیکی و ترموکرومیکی این لایه‏ها و اثر پارامترهایی چون تغییر ضخامت، تغییر غلظت، دمای بازپخت و دمای زیرلایه بر خواص اپتیکی مورد بررسی قرار گرفته است. طیف عبوری نمونه‏ها در محدوده‏ی uv-vis اندازه‏گیری و گاف انرژی، نوع گذار الکترونی و همچنین ثابت های اپتیکی محاسبه شده اند. به منظور برر...

طراحی و ساخت لایه‌های نازک اپتیکی با نمایه ضخامت متغیر برای تولید آینه‌های VRM

  The design method and fabrication of mirrors with variable reflectivity are presented. To fabricate such a mirror a fixed mask with a circular aperture is used. The circular aperture is considered as an extended source with cosx(θ)as its diffusion distribution function and is the parameter for the distribution function of the particles through the aperture. The thickness profile of deposited ...